Delší perspektiva pro optickou litografii

Vědci společnosti IBM vyrobili čip pomocí 29,9nanometrové výrobní technologie. Posunuli tak původní předpokládanou ...


Vědci společnosti IBM vyrobili čip pomocí 29,9nanometrové výrobní technologie.
Posunuli tak původní předpokládanou hranici využití optické litografie, která
měla dostačovat pouze do měřítka 32 nm.
Z hlediska křemíkového byznysu jde o počin, jenž posunul dobu, kdy by výrobci
čipů museli přejít na zcela jinou technologii výroby. Podle odhadů nyní mají
přibližně 7 let na vývoj výrobních technologií produkujících polovodiče v
měřítku menším než 29,9 nm.
Podle pozorovatelů trhu IBM pouze posunula fyzické limity optické litografie,
což má význam především pro obchodní stránku výroby čipů. Technika, již vědci
IBM použili, se nazývá optická litografie (DUV, Deep-Ultraviolet) a konkrétní
variantu jejího nasazení potom nese označení High-Index Immersion. Dodejme, že
dosažených necelých 30 nanometrů představuje přibližně třetinový rozměr oproti
dnešnímu výrobnímu standardu, jenž má hodnotu 90 nm. Například společnost Intel
ale již zahájila výrobu 65nm technologií.
Obvody jdou vyráběny s pomocí laserového paprsku, který vytváří potřebné vzorce
ve fotocitlivé vrstvě křemíkového plátu. Poté následuje leptání, materiálové
zušlechťování a propojování tranzistorů. Mezi křemíkový plát a laserový paprsek
optiky se vkládá chemicky čistá voda, která umožňuje dosažení vyššího rozlišení
zanášených stop. Tato technika se nazývá Immersion Litography (vnořená
litografie) a jde o dnes převládající standard.
Nástroj IBM přezdívaný Nemo využívá křížící se laserové paprsky, jež vytvářejí
světlé a tmavé křížící se vzory s tenčími mezerami, než jakých dosahuje
stávající výrobní metoda. Pro komerční uplatnění scházejí pouze odpovídající
vysokoindexní materiály laserových objektivů.









Komentáře
K tomuto článku není připojena žádná diskuze, nebo byla zakázána.