Litografie s čočkou

Výkon procesorů pomáhá zvyšovat jejich postupné zahušťování, tedy zmenšování jednotlivých součástek a současn...


Výkon procesorů pomáhá zvyšovat jejich postupné zahušťování, tedy zmenšování
jednotlivých součástek a současné zjemňování spojů mezi nimi. Většina čipů se
dnes vyrábí litografickou metodou, a proto výzkumníci neustále hledají
možnosti, jak obejít omezení spojená s vlnovou délkou použitelného světla.
Vědci z Technické univerzity v Rochesteru (Rochester Institute of Technology,
www.rit.edu) však pod vedením profesora Bruce Smitha nyní objevili způsob, jak
vyrábět hustěji uspořádané čipy za pomoci technických prostředků využívaných v
sériové výrobě už v současnosti. Řešení je geniálně jednoduché stačí využít
optických vlastností nejrozšířenější pozemské kapaliny.
Současná generace litografických strojů je schopna vyrábět čipy s rozlišením 90
nanometrů (platí shodně pro Intel/AMD i řadu IBM). Pokud je ovšem při výrobě na
křemíkovou destičku přiveden tenký proud vody, je možné získat rozlišení až 45
nanometrů. Voda totiž působí jako čočka, která je schopna zmenšit obraz masky
procesoru na polovinu.
Podobný princip je přitom již více než 100 let využíván u mikroskopů pouze s
tím rozdílem, že tam různé kapaliny pomáhají zkoumaný objekt zvětšovat. Místo
vody jsou ve zvětšovací technice využívány olejnaté směsi, které ovšem vzhledem
ke svým chemickým vlastnostem v polovodičové elektronice nelze použít.
Optimálním řešením se v případě výroby čipů proto ukázala být voda, která je ke
všem součástkám i etapám litografického procesu inertní a její optické
vlastnosti jsou navíc optimální právě pro vlnové délky světla využívané v
současnosti.
Je třeba ještě vyřešit problémy s odhalováním defektů ve výsledných produktech,
protože na to již nebudou postačovat stávající optická čidla. Určité technické
problémy mohou být spojeny i s přívodem vody na začátku a s jejím odstraňování
na konci výrobního procesu. Nicméně o tento výzkum již projevily zájem i firmy
IBM a Intel, které chystají zkušební provoz upravených linek na začátek
příštího roku. Pokud nebudou úpravy stávajících strojů příliš náročné a
současně se podaří dosáhnout požadované kvality, mohl by být nový postup
sériově zaveden ještě v průběhu roku 2005. Záležet bude také na postoji
dodavatelů litografických přístrojů, např. firem Nikon Precision, Canon a ASML
Lithography.









Komentáře
K tomuto článku není připojena žádná diskuze, nebo byla zakázána.